| 主权项 |
1.一种挡墙结构制作方法,适用于以喷墨法制造液晶显示器之彩色滤光片时,该挡墙结构制作方法至少包含:在彩色滤光片基材上依序形成一黑色矩阵层和一第一光阻层;藉由一光罩依序图案化该黑色矩阵层和该第一光阻层;去除该第一光阻层;形成一第二光阻层于图案化后的该黑色矩阵层上;以及藉由背面曝光方式,图案化该第二光阻层成为挡墙结构。2.如申请专利范围第1项所述之挡墙结构制作方法,其中该背面曝光方式系以紫外光作为曝光源。3.如申请专利范围第2项所述之挡墙结构制作方法,其中该背面曝光方式系以图案化后的该黑色矩阵层作为光罩经曝光和显影步骤图案化该第二光阻层。4.如申请专利范围第1项所述之挡墙结构制作方法,其中该第一光阻层系以习知的曝光和显影的步骤图案化。5.如申请专利范围第1项所述之挡墙结构制作方法,其中该黑色矩阵层系以蚀刻方式图案化。6.如申请专利范围第1项所述之挡墙结构制作方法,其中该第二光阻层习系一种正型光阻材料。7.一种彩色滤光片之制作方法,适用于液晶显示器,该彩色滤光片之制作方法至少包含:在彩色滤光片基材上依序形成一黑色矩阵层和一第一光阻层;藉由一光罩依序图案化该黑色矩阵层和该第一光阻层,且去除该第一光阻层;形成一第二光阻层于图案化后的该黑色矩阵层上;藉由背面曝光方式,图案化该第二光阻层成为一挡墙结构;以及藉由喷墨法将彩色墨滴直接上色于该黑色矩阵层和该挡墙结构图案化后所构成的凹框。8.如申请专利范围第7项所述之彩色滤光片制作方法,更包含以热烤方式硬化该彩色墨滴。9.如申请专利范围第7项所述之彩色滤光片制作方法,其中该背面曝光方式系以紫外光作为曝光源。10.如申请专利范围第7项所述之彩色滤光片制作方法,其中该背面曝光方式系以图案化后的该黑色矩阵层作为光罩经曝光和显影步骤图案化该第二光阻层。11.如申请专利范围第7项所述之彩色滤光片制作方法,其中该第一光阻层系以习知的曝光和显影的步骤图案化。12.如申请专利范围第7项所述之彩色滤光片制作方法,其中该黑色矩阵层系以蚀刻方式图案化。13.如申请专利范围第7项所述之彩色滤光片制作方法,其中该第二光阻层习系一种正型光阻材料。图式简单说明:第1A-1E图系绘示依照本发明一较佳实施例制造挡墙结构的步骤图;以及第2A-2C图系绘示依照本发明一较佳实施例的喷墨法上色的步骤图。 |
