发明名称 非旋转涂布用光阻之制造方法
摘要 明之课题系以提供将使用过的旋转涂布用光阻作为原料之非旋转涂布用光阻之制造方法。
申请公布号 TWI534532 申请公布日期 2016.05.21
申请号 TW101125807 申请日期 2012.07.18
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 竹堤俊纪;长谷川透;引田二郎
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/16(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项 一种非旋转涂布用光阻之制造方法,其系将使用过的旋转涂布用光阻作为原料之非旋转涂布用光阻之制造方法,其特征为含有以下之步骤:将含有前述使用过的旋转涂布用光阻与冲洗液之使用过的混合液回收之回收步骤、与将前述使用过的混合液经加热浓缩并调制浓缩液之浓缩步骤、与将矽系界面活性剂添加于前述浓缩液来制造非旋转涂布用光阻之添加步骤;其中,前述使用过的旋转涂布用光阻之溶剂主要为丙二醇单甲醚乙酸酯,前述冲洗液为含有较丙二醇单甲醚乙酸酯为低沸点的其他溶剂,在前述浓缩步骤,使全溶剂中前述其他溶剂所占之比例以成为40质量%以下之方式来浓缩前述使用过的混合液,相对于前述非旋转涂布用光阻之固形分,使前述界面活性剂以成为0.2质量%以上之方式来进行添加。
地址 日本