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发明名称
微影装置及元件制造方法
摘要
本发明揭示一种用以在辐射之一脉冲期间补偿一微影装置中的一基板之移动的方法,该补偿系藉由提供用以与该基板同步地移动入射在该基板上的图案化投影光束之一构件。
申请公布号
TW200424794
申请公布日期
2004.11.16
申请号
TW092133157
申请日期
2003.11.26
申请人
ASML公司
发明人
爱诺 詹 波利克;乔塞夫 皮楚斯 亨利卡斯 班乔布;HENRICUS
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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