发明名称 灰阶罩幕之缺陷检查方法
摘要 本发明的灰阶罩幕之判断(检查、保证)、修正方法,系相关执行正常图案或所谓修正图案之判断的情况时,可轻易地执行灰阶部在使用者曝光、转印处理中,是否会造成问题的检查(判断)。本发明的灰阶罩幕之缺陷检查方法,系经调整穿透量的区域,且以减低穿过此区域之光穿透量,俾选择性改变光阻膜厚为目的,且具有灰阶部、遮光部及穿透部;其包含有:(1)制作上述灰阶部之影像资料的步骤;(2)根据上述影像资料,对灰阶部施行成可辨识缺陷之影像处理的步骤;以及(3)根据上述影像处理后的资料,施行缺陷检查的步骤。
申请公布号 TW200425295 申请公布日期 2004.11.16
申请号 TW093109724 申请日期 2004.04.08
申请人 HOYA股份有限公司 发明人 池边寿美
分类号 H01L21/266 主分类号 H01L21/266
代理机构 代理人 赖经臣
主权项
地址 日本