发明名称 |
METHOD FOR THE PRODUCTION OF A BIPOLAR TRANSISTOR |
摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung schafft ein Verfahren zur Herstellung eines Bipolartransistors mit den Schritten: Bereitstellen eines Halbleitersubstrats (1) mit einem darin eingebetteten, nach oben freiliegenden Kollektorbereich (25) eines ersten Leitungstyps (n); Vorsehen eines monokristallinen Basisgrundbereichs (30; 32; 120) ; Vorsehen eines Basisanschlussbereichs (40; 160) des zweiten Leitungstyps (p) über dem Basisbereich (30; 32, 34; 120, 130); Vorsehen eines Isolationsbereichs (35; 35''; 170) über dem Basisanschlussbereich (40; 160); Bilden eines Fensters (F) im Isolationsbereich (35; 35''; 170) und Basisanschlussbereich (40; 160) zum zumindest teilweisen Freilegen des Basisbereichs (30; 32, 34; 120, 130); Vorsehen eines isolierenden Seitenwandspacers (55'; 80; 180) im Fenster zum Isolieren des Basisanschlussbereichs (40; 160; differentielles Abscheiden und Strukturieren einer Emitterschicht (60a, 60b), welche oberhalb des Basisbereichs (30; 32, 34; 120, 130) einen monokristallinen Emitterbereich (60a) und oberhalb des Isolationsbereich (35; 35''; 170) und des Seitenwandspacers (55'; 80; 180) einen polykristallinen Emitterbereich (60a) bildet; und Durchführen eines Temperschritts.</p> |
申请公布号 |
WO2004090968(A1) |
申请公布日期 |
2004.10.21 |
申请号 |
WO2004EP03125 |
申请日期 |
2004.03.24 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG;BOECK, JOSEF;MEISTER, THOMAS;STENGL, REINHARD;SCHAEFER, HERBERT |
发明人 |
BOECK, JOSEF;MEISTER, THOMAS;STENGL, REINHARD;SCHAEFER, HERBERT |
分类号 |
H01L21/331;H01L29/06;H01L29/08;H01L29/737;(IPC1-7):H01L21/331 |
主分类号 |
H01L21/331 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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