发明名称 |
ENSEMBLE DESTINE A LA PULVERISATION CATHODIQUE MAGNETRON. |
摘要 |
L'invention concerne une méthode pour améliorer l'uniformité de l'érosion à la surface de pulvérisation d'une cible destinée à la pulvérisation cathodique magnétron. L'invention est caractérisée en ce que l'on utilise, en relation avec un magnétron stationnaire par rapport à cette cible, un ensemble comprenant la cible de pulvérisation et au moins une pièce ferromagnétique insérée totalement ou partiellement dans cette cible ou juxtaposée à celle-ci et en ce qu'il est configuré de manière à modifier la courbure des lignes d'induction magnétique au niveau de la surface de pulvérisation de ladite cible. |
申请公布号 |
BE1015154(A5) |
申请公布日期 |
2004.10.05 |
申请号 |
BE20020000606 |
申请日期 |
2002.10.23 |
申请人 |
ALLOYS FOR TECHNICAL APPLICATIONS S.A. |
发明人 |
CLAVAREAU GUY;LEFEVRE PATRICK |
分类号 |
H01J37/34 |
主分类号 |
H01J37/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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