发明名称 ENSEMBLE DESTINE A LA PULVERISATION CATHODIQUE MAGNETRON.
摘要 L'invention concerne une méthode pour améliorer l'uniformité de l'érosion à la surface de pulvérisation d'une cible destinée à la pulvérisation cathodique magnétron. L'invention est caractérisée en ce que l'on utilise, en relation avec un magnétron stationnaire par rapport à cette cible, un ensemble comprenant la cible de pulvérisation et au moins une pièce ferromagnétique insérée totalement ou partiellement dans cette cible ou juxtaposée à celle-ci et en ce qu'il est configuré de manière à modifier la courbure des lignes d'induction magnétique au niveau de la surface de pulvérisation de ladite cible.
申请公布号 BE1015154(A5) 申请公布日期 2004.10.05
申请号 BE20020000606 申请日期 2002.10.23
申请人 ALLOYS FOR TECHNICAL APPLICATIONS S.A. 发明人 CLAVAREAU GUY;LEFEVRE PATRICK
分类号 H01J37/34 主分类号 H01J37/34
代理机构 代理人
主权项
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