发明名称 双处理器之热度平衡构造
摘要 本新型系一种双处理器之热度平衡构造,主要应用于使双处理器平均散热,以维持正常操作之效,于双处理器之间隔距离处架设高传导率之热平衡管,并使其跨接于散热鳍片上,藉由该热平衡管使双处理器可平均传热于散热鳍片,故不会发生因热度不同而产生的当机现象,并且该热平衡管体积较小易于搭接,不会占用空间。
申请公布号 TWM242767 申请公布日期 2004.09.01
申请号 TW092215220 申请日期 2003.08.22
申请人 悦舍科技股份有限公司 发明人 施水源
分类号 G06F1/20 主分类号 G06F1/20
代理机构 代理人 黄志扬 台北市中山区长安东路一段二十三号十楼之一
主权项 1.一种双中央处理器之热度平衡构造,应用于使双中央处理器平均散热,系将一热平衡管跨接于双中央处理器之间,藉由热传导方式将温度较高之中央处理器热量传递至温度较低处。2.如申请专利范围第1项所述之双中央处理器之热度平衡构造,其中该中央处理器其上接有一散热鳍片。3.如申请专利范围第1项所述之双中央处理器之热度平衡构造,其中该双中央处理器之形状为非对称形。4.如申请专利范围第1项所述之双中央处理器之热度平衡构造,其中该热平衡管系为直线形。5.如申请专利范围第1项所述之双中央处理器之热度平衡构造,其中该热平衡管可按于双中央处理器之间。6.如申请专利范围第1项所述之双中央处理器之热度平衡构造,其中该热平衡管可按于散热鳍片底板。7.如申请专利范围第1项所述之双中央处理器之热度平衡构造,其中该热平衡管系为英文字母之「S」形态样。8.如申请专利范围第3项所述之双中央处理器之热度平衡构造,其中该热平衡管可为「连续S」形态样。9.如申请专利范围第1项所述之双中央处理器之热度平衡构造,其中该热平衡管可为中空管。10.如申请专利范围第5项所述之热平衡管,其中该热平衡管内可添加低沸点之液态物质。图式简单说明:第1图,系本新型之第一实施例示意图。第2图,系本新型之第二实施例示意图。第3图,系本新型之第三实施例示意图。第4图,系本新型实施例之使用状态示意图。
地址 台北县汐止市大同路三段一九六之一号九楼