| 发明名称 | 含有非线性光学材料层的光刻用掩膜 | ||
| 摘要 | 一种含有非线性光学材料层的光刻用掩膜，包括保护层、非线性光学材料层和保护层，其特点是所述的保护层均由氮化硅或硫化锌和二氧化硅的混合材料构成；所述的非线性光学材料层由铋构成。该掩膜层减小光斑主要是靠具有三阶非线性材料的的聚焦效应。采用该种掩膜材料，具有聚焦效率高，对入射光响应时间快，对光刻胶和基片的热损伤小等优点。实验证明它可以达到明显减小刻蚀线宽的目的。 | ||
| 申请公布号 | CN1515960A | 申请公布日期 | 2004.07.28 |
| 申请号 | CN03150504.X | 申请日期 | 2003.08.22 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 张锋;王阳;徐文东;干福熹;张研研;魏劲松;高秀敏;周飞 |
| 分类号 | G03F1/14;H01L21/027 | 主分类号 | G03F1/14 |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 1、一种含有非线性光学材料层的光刻用掩膜，包括保护层(1)、非线性光学材料层(2)和保护层(3)其特征在于所述的保护层(1)和保护层(3)均由氮化硅或硫化锌和二氧化硅的混合材料构成；所述的非线性光学材料层(2)由铋构成。 | ||
| 地址 | 201800上海市800－211邮政信箱 | ||