Verfahren zur Justage eines Substrates in einem Gerät zur Durchführung einer Belichtung

摘要

Die Unebenheiten eines Objektträgers werden an verschiedenen Positionen vermessen und als Abweichungen gegenüber einer idealisierten Ebene in einer Datenbank gespeichert. Mit den gemessenen Abweichungen werden für die vorgegebenen Einstellungen für den Fokusabstand und/oder die Verkippung des Objektträgers Korrekturen berechnet, welche jeweils unterschiedlich für die Justage bei der jeweiligen Belichtung der Belichtungsfelder angewendet werden.