| 摘要 |
本发明提供一种基板处理装置，其系气流存在于收容器内之气氛中的情况，不受气流之影响，而可使基板全体之处理结果均匀者。本发明一面藉由搬运滚筒15移动基板W，一面实施自排出喷嘴20排出电浆气体至基板W上而除去附着于基板W之有机物之处理时，于排出喷嘴20正下方近旁且平行于基板W之行进方向之位置配置两片侧面整流板30，及于排出喷嘴20之下方配置下部整流板31。如此，藉由设置侧面整流板30及下部整流板31，可调整处理室10内之气流FL12，可使电浆气体之气体流FL11在基板W之端缘部与部均匀，因而在基板W全体可使有机物除去处理结果均匀。 |
