发明名称 Integriertes Schaltkreispackage mit vergrößerter Chip-Klebefläche
摘要 Es wird ein Herstellungsverfahren mit vergrößerter effektiver Chip-Klebefläche offenbart. Eine flüssige A-Zustandspaste (121) wird auf ein Substrat (110) aufgebracht und zu einer B-Zustandsfilmschicht (122) teilweise ausgehärtet. Die B-Zustandsfilmschicht (122) wird während eines Chip-Befestigungsschritts und eines elektrischen Verbindungsschritts aufrechterhalten, ohne dabei vollständig auszuhärten. Während eines Einformens ist der Zusammenpressdruck für das entsprechende Kapselmaterial (150) größer (6,89 x 106 bis 10,34 x 106 Pa bzw. 1000 bis 1500 psi) als der Chip-Befestigungsdruck. Hierdurch wird die B-Zustandsfilmschicht (122) dünn zusammengedrückt und die effektive Chip-Klebefläche vergrößert. Die B-Zustandsfilmschicht (122) und das Kapselmaterial (150) werden beim Einformen gleichzeitig ausgehärtet.
申请公布号 DE10355068(A1) 申请公布日期 2004.06.17
申请号 DE2003155068 申请日期 2003.11.25
申请人 CHIPMOS TECHNOLOGIES (BERMUDA) LTD., HAMILTON;CIPMOS TECHNOLOGIES INC., HSINCHU 发明人 LIN, CHUNG-HUNG;CHUNG, CHO-LIANG;HUANG, M.L.;HUANG, JESSE
分类号 C09J7/00;H01L21/56;H01L21/58;(IPC1-7):H01L21/58 主分类号 C09J7/00
代理机构 代理人
主权项
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