发明名称 METHOD FOR BORING HOLES IN A SUBSTRATE, ESPECIALLY IN AN ELECTRICAL CIRCUIT SUBSTRATE, BY MEANS OF A LASER BEAM
摘要 <p>Beim Bohren von Löchern (14, 15) mittels eines Laserstrahls in einem Substrat (1), vorzugsweise in einer Leiterplatte, wird die Strahlachse bei Ansteuerung eines neuen Bohrloches jeweils zunächst in den Lochmittelpunkt (M) und von dort auf eine Kreisbahn (K) bewegt, um in einer kreisenden Bewegung das Loch zu bohren. Um im Lochmittelpunkt keine abrupte Richtungsänderung zwischen der Sprungrichtung in den Lochmittelpunkt und der fest vorprogrammierten Verfahrbewegung in Richtung auf die Kreisbahn zu vermeiden, wird eine vorgegebene Anzahl von Verfahrrichtungen (V1 bis V8) mit entsprechenden Bohrprogrammen vorgegeben, von denen je nach der Sprungrichtung des ankommenden Strahls diejenige mit der geringsten Richtungsänderung ausgewählt wird. Dadurch läßt sich eine höhere Prozeßgeschwindigkeit (Sprunggeschwindigkeit und Bohrgeschwindigkeit auf einer Kreisbahn) bei gleichbleibender oder verbesserter Bohrqualität der Löcher und eine höhere Lebensdauer der Galvomotoren in der Ablenkeinheit (2) erreichen.</p>
申请公布号 WO2004041474(A1) 申请公布日期 2004.05.21
申请号 WO2003DE03564 申请日期 2003.10.27
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;KILTHAU, ALEXANDER;MAYER, HANS, JUERGEN;VAN BIESEN, MARC 发明人 KILTHAU, ALEXANDER;MAYER, HANS, JUERGEN;VAN BIESEN, MARC
分类号 B23K26/38;H05K3/00;(IPC1-7):B23K26/38 主分类号 B23K26/38
代理机构 代理人
主权项
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