发明名称 化学机械研磨之拘束环
摘要 一种化学机械研磨之拘束环,具有一内表面、一外表面及在内表面与外表面之间的磨耗面,其中与内表面呈垂直之磨耗面嵌设有复数个耐磨柱,在长时间之化学机械研磨中,耐磨柱系略凸出于下环体之磨耗面,使拘束环具有耐用性并可供研磨浆流布及调控研磨垫。
申请公布号 TW586988 申请公布日期 2004.05.11
申请号 TW090116795 申请日期 2001.07.06
申请人 庆康科技股份有限公司 发明人 杜家庆;彭廷彰;林国明;陈东阳
分类号 B24D7/16;B24B37/04 主分类号 B24D7/16
代理机构 代理人 张启威 高雄市左营区立文路七十七号十六楼之二
主权项 1.一种化学机械研磨之拘束环,可移除地装设于一 研磨头,该拘束环系包含有: 一下环体,其系具有一内表面、一外表面以及一磨 耗面,其中该内表面系用以束缚一晶圆,该磨耗面 系在该内表面与该外表面之间且与该内表面呈垂 直,该磨耗面系形成有复数个孔洞;及 复数个耐磨柱,其系嵌设于该下环体磨耗面之孔洞 。2.如申请专利范围第1项所述之化学机械研磨之 拘束环,其另包含一上环体,其系设于该下环体之 上。3.如申请专利范围第2项所述之化学机械研磨 之拘束环,其另包含一定位板,其系设于该上环体 与该下环体之间,以供该些耐磨柱之穿套定位。4. 如申请专利范围第1项所述之化学机械研磨之拘束 环,其中该下环体之材质系选自于聚硫化伸苯[ polyphenylene sulfide,PPS]、聚醚乙醚酮[ polyetheretherketone,PEEK]、聚氧化乙烯对苯二酸[ polyethylene terephthalate,PET]或聚丁烯对苯二酯[ polybutylene terephthalate,PBT]。5.如申请专利范围第1项 所述之化学机械研磨之拘束环,其中该些耐磨柱系 略凸出于该下环体之磨耗面。6.如申请专利范围 第1项所述之化学机械研磨之拘束环,其中该些耐 磨柱系呈圆柱状。7.如申请专利范围第1项所述之 化学机械研磨之拘束环,其中该些耐磨柱系呈圆环 排列。8.如申请专利范围第1项所述之化学机械研 磨之拘束环,其中该些耐磨柱系呈双圆环交错排列 。9.如申请专利范围第1项所述之化学机械研磨之 拘束环,其中该些耐磨柱之材质系选自于石英、氧 化铝、碳化钨或陶瓷。10.如申请专利范围第1项所 述之化学机械研磨之拘束环,其中该些耐磨柱内系 包含有钻石颗粒。图式简单说明: 第1图:在美国专利第6,068,548号「适用于化学机械 研磨之稳定结合之拘束环」中,习知化学机械研磨 设备之截面图; 第2图:在美国专利第6,004,193号「双重目的拘束环 及研磨垫调控器」中,其拘束环之截面图; 第3图:依本发明之第一具体实施例,一拘束环之立 体分解图; 第4图:依本发明之第一具体实施例,一拘束环之顶 视图; 第5图:沿第4图5-5线之截面图; 第6图:依本发明之第一具体实施例,一拘束环在研 磨状态之局部截面图; 第7图:依本发明之第二具体实施例,拘束环之顶视 图;及 第8图:依本发明之第二具体实施例,一拘束环之单 侧截面图。
地址 新竹市新竹科学工业园区工业东四路五号