首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Hochreines Hafnium und dessen Verwendung als Sputtertarget
摘要
申请公布号 DE69133267(T2) 申请公布日期 2004.04.08
申请号 DE1991633267T 申请日期 1991.02.15
申请人 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI 发明人 ISHIGAMI, TAKASHI;OBATA, MINORU;KAWAI, MITUO;SATOU, MICHIO;YAMANOBE, TAKASHI;MAKI, TOSHIHIRO;YAGI, NORIAKI;ANDO, SHIGERU
分类号 C22B9/22;C22B34/10;C22B34/12;C23C14/34;H01L21/285;H01L21/768;H01L23/532;(IPC1-7):C22B34/10 主分类号 C22B9/22
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com