| 发明名称 | 步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统 | ||
| 摘要 | 步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统，该系统含有运行于曝光工位的硅片台定位单元和运行于预处理工位的硅片台定位单元，每个定位单元含有硅片承载装置。本发明设有供硅片承载装置沿Y向运动及交换的可对接的双侧直线导轨及与双侧直线导轨成H型布置的X向直线导轨；所述双侧直线导轨的两端均装有直线电机和气浮轴承，可沿X向导轨作无摩擦的步进运动，其底面也通过气浮轴承支撑在所述基台的上表面；两个硅片承载装置分别设置在双侧直线导轨的两侧。该系统可在保持现有单台曝光硅片运动定位系统的运动速度和加速度的前提下大幅度提升曝光效率；工作空间上不存在重叠和发生干涉的问题，系统结构简单，有效提高了运行的可靠性和定位精度。 | ||
| 申请公布号 | CN1485694A | 申请公布日期 | 2004.03.31 |
| 申请号 | CN03156436.4 | 申请日期 | 2003.08.29 |
| 申请人 | 清华大学 | 发明人 | 汪劲松;朱煜;张鸣;尹文生;段广洪;杨学智;徐登峰;杨开明;朱立伟;王建发;于晖 |
| 分类号 | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027;H01L21/68;F16C32/06 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 1.一种步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统，该系统含有运行于曝光工位的硅片台定位单元和运行于预处理工位的硅片台定位单元，每个硅片台定位单元含有硅片承载装置(6、7)，所述的两个硅片台定位单元设置在一基台(1)上，其特征在于：在所述的基台上设有供硅片承载装置沿Y向运动及交换的可对接的双侧直线导轨(4、5)及与双侧直线导轨成H型布置的X向直线导轨(23a、23b、24a、24b)；所述的双侧直线导轨的两端均装有直线电机(13a、13b、14a、14b)和气浮轴承(25a、25b、26a、26b)，可沿X向导轨作无摩擦的步进运动，其底面也通过气浮轴承(19、20)支撑在所述基台的上表面(8a、8b)；两个硅片承载装置分别设置在双侧直线导轨的两侧，并通过直线电机(11a、11b、12a、12b)和气浮轴承(17、18)同双侧直线导轨相联。 | ||
| 地址 | 100084北京市100084－82信箱 | ||