发明名称 具抗反射膜之光学元件
摘要 为了解决使光学元件达成在塑胶基板与抗反射膜之间具有高黏性的问题,且使其具有优良的耐热性及耐冲击性,本发明提供一种光学元件,其包括一塑胶基板,及依序在其上的一铌(Nb)基础层(视情况混有一或多种选自于铝(Al)、钽(Ta)、铬(Cr)及其混合物的成分,且量在整个层中最高为50重量%),及一抗反射膜。
申请公布号 TW578004 申请公布日期 2004.03.01
申请号 TW090120086 申请日期 2001.08.16
申请人 保谷股份有限公司 发明人 三石刚史;新出谦一
分类号 G02B1/10 主分类号 G02B1/10
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种光学元件,包括塑胶基板,及依序在其上的含铌(Nb)基础层,和抗反射膜。2.如申请专利范围第1项之光学元件,其中该基础层系由铌构成。3.如申请专利范围第1项之光学元件,其中该基础层的厚度为1.0至5.0奈米。4.如申请专利范围第1项之光学元件,其中该基础层系可藉由离子辅助方法得到的。5.如申请专利范围第1项之光学元件,其中该抗反射膜包括二或多层。6.如申请专利范围第5项之光学元件,其中该抗反射膜中至少一层系可藉由离子辅助方法得到的。7.如申请专利范围第5项之光学元件,其中该抗反射膜包括低反射的二氧化矽层以及高反射的二氧化钛层。8.如申请专利范围第1至3项中任一项之光学元件,其中该抗反射膜包括一由铌构成的层。9.如申请专利范围第5项之光学元件,其中该抗反射膜系包括依序提供于该基础层上的第一至第七层,其中第一、第三、第五、和第七层都是二氧化矽层,而第二、第四、和第六层都是二氧化钛层。10.如申请专利范围第5项之光学元件,其中该抗反射膜系包括依序提供于该基础层上的第一至第七层,其中第一、第三、第五、和第七层都是二氧化矽层,第二层为铌层,而第四和第六层则是二氧化钛层。11.如申请专利范围第1-7.9和10项中任一项之光学元件,其更包括位于该塑胶基板与该基础层之间的一硬化膜。
地址 日本