发明名称 System and method for providing defect printability analysis of photolithographic masks with job-based automation
摘要
申请公布号 US2004015808(A1) 申请公布日期 2004.01.22
申请号 US20030618816 申请日期 2003.07.11
申请人 NUMERICAL TECHNOLOGIES, INC. 发明人 PANG LINYONG;CHANG FANG-CHENG
分类号 G06F17/50;(IPC1-7):G06F17/50 主分类号 G06F17/50
代理机构 代理人
主权项
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