| 摘要 |
本发明之课题：提供一种于曝光时可不使用衬垫，并且能以简单操作将光罩均匀紧贴着基板的整个表面的曝光方法及曝光装置。本发明之解决手段：曝光装置具有基板1支撑用的基板支撑台2及延续成可包围着基板1周围的中空密封构件13。光罩6是关被置放在密封构件13上；以基板支撑台2和基板1及中空密封构件13和光罩6围绕形成着第1空间27；密封构件13的中空内部是形成为第2空间28。当基板1的尺寸相资讯被输入在控制手段22、29内时，根据该资讯压力会供给至第1空间27及第2空间28。该压力值，是为使光罩6能均匀紧贴着基板的整个表面而决定的适当压力值。 |
