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发明名称 METHOD OF DETERMINING PROCESS PARAMETER FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20030078636(A) 申请公布日期 2003.10.08
申请号 KR20030007498 申请日期 2003.02.06
申请人 发明人
分类号 H01L21/66;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/822;H01L21/8238;H01L27/04;H01L27/092 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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