METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING A SEMICONDUCTOR WAFER DURING A SPIN DRYING OPERATION,申请号KR20037008683-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	METHOD AND APPARATUS FOR MONITORING A SEMICONDUCTOR WAFER DURING A SPIN DRYING OPERATION
摘要
申请公布号	KR20030078875(A)	申请公布日期	2003.10.08
申请号	KR20037008683	申请日期	2003.06.26
申请人		发明人
分类号	H01L21/304;H01L21/66;B24B49/00;B24B51/00;B24C3/00;F26B3/34;F26B13/10;F26B17/24;F26B17/30;F26B21/00;G01R31/26;H01L21/00;H01L21/31	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
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