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COMPOSICION COSMETICA PARA EL USO EN COSMETICOS O PRODUCTOS DETERGENTES PARA LA APLICACION AL CUIDADO DE LA PIEL, QUE COMPRENDE POR LO MENOS UN SURFACTANTE ELEGIDO DE ENTRE EL GRUPO COMPUESTO POR SURFACTANTES ANIONICOS DE FORMULA (I), EN LA CUAL R1 ES UN RADICAL HIDROCARBONADO SATURADO O INSATURADO QUE NO TIENE MAS DE 40 ATOMOS DE CARBONO, R2 ES UN RADICAL ALQUILO INFERIOR Y A ES UN RADICAL ALQUILENO INFERIOR, INCLUYENDO SUS SALES, Y SURFACTANTES ANFOTERICOS, DE FORMULA GENERAL (II), EN LA CUAL R3 ES UN RADICAL HIDROCARBONADO, SATURADO O INSATURADO, CON MENOS DE 40 ATOMOS DE CARBONO, SIENDO R4 Y R5 CADA UNO UN RADICAL ALQUILO INFERIOR Y B UN RADICAL ALQUILENO INFERIOR; Y COMO AGENTE ANTISEPTICO HINOQUITIOL O UNA SAL DEL MISMO, PUDIENDO DICHA COMPOSICION SER APLICADA CON SEGURIDAD A LA PIEL DE UN PACIENTE SENSIBLE A LOS IRRITANTES EXTERNOS.
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