| 摘要 |
<p>Um eine Vorrichtung zum Belichten von Substratmaterialien umfassend mindestens eine optische Belichtungseinrichtung, mindestens einen Substrattisch, eine Vorrichtung zur Erzeugung einer Relativbewegung zwischen der Belichtungseinrichtung und dem Substrattisch in zwei quer zueinander verlaufenden Richtungen, wobei die Relativbewegung in einer Hauptrichtung mit einer grösseren Dynamik erfolgt als in einer Nebenrichtung, mindestens einen Hauptantrieb zur Erzeugung der Relativbewegung in der Hauptrichtung und mindestens einen Nebenantrieb für die Erzeugung der Relativbewegung in der Nebenrichtung, derart zu verbessern, dass diese bei möglichst hoher Dynamik eine möglichst hohe Positionsgenauigkeit bei der Positionierung des Substrattisches aufweist, wird vorgeschlagen, dass die Vorrichtung zwei sich in Hauptrichtung im wesentlichen gegenläufig bewegende Substrattische aufweist.</p> |
