发明名称 Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie
摘要 Ein Objektiv, insbesondere Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie, ist mit wenigstens einem optischen Element (8) versehen, das in einer Innenfassung (9a) gelagert ist, wobei die Innenfassung (9a) mit der Außenfassung (9b) verbunden ist. Durch eine Manipulatoreinrichtung (21) erfolgt eine Verschiebung des optischen Elementes (8), vorzugsweise in wenigstens eine Richtung, die wenigstens annähernd parallel zur optischen Achse liegt. In einem Spalt (12) zwischen der Innenfassung (9a) und der Außenfassung (9b) ist wenigstens ein elastisch verformbares Band (13) angeordnet, wobei das Band jeweils über einen Befestigungsabschnitt (15) mit der Innenfassung (9a) und der Außenfassung (9b) verbunden ist und wobei die beiden Befestigungsabschnitte (15) durch einen Bogenabschnitt (18, 19) und dazwischenliegende freie Anlageteile (16, 17) miteinander verbunden sind.
申请公布号 DE10209661(A1) 申请公布日期 2003.09.18
申请号 DE20021009661 申请日期 2002.03.05
申请人 CARL ZEISS SMT AG 发明人 WEBER, ULRICH
分类号 G02B7/02;G03F7/20;(IPC1-7):G02B7/02 主分类号 G02B7/02
代理机构 代理人
主权项
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