钻石制膜用基材及钻石膜

摘要

本发明提供一种气相合成钻石制膜用基材，其钻石核形成密度高，即使于10μm以下之极薄膜厚，亦可获得钻石之连续膜。本发明之气相合成钻石制膜用基材，其特征系：基材表面以1x10^8～lx10^13个／cm^2之密度存在有直径2nm以上、lOOnm以下粒径之钻石粒子。钻石粒子间之空隙系利用直径不到2nm之粒径之钻石粒予以填补。