发明名称 | 用于跟踪分段区域轮廓的装置 | ||
摘要 | 一种用于跟踪图象内分段区域轮廓的装置包括:零遮掩单元,用于对每个分段区域产生闭合轮廓圈;跟踪电路,用于序贯地指定闭合轮廓圈上的每个非零遮掩象素作为跟踪象素,将跟踪象素与相对于跟踪象素位于其右、上、左及下方的一组相邻象素相比较,以选择出一个具有与跟踪象素相同亮度电平的相邻象素,并用选出的相邻象素更新跟踪象素,直到更新的跟踪象素与首次选出的跟踪象素相重合时为止。 | ||
申请公布号 | CN1117478C | 申请公布日期 | 2003.08.06 |
申请号 | CN95119446.1 | 申请日期 | 1995.12.29 |
申请人 | 大宇电子株式会社 | 发明人 | 李敏燮 |
分类号 | H04N7/26 | 主分类号 | H04N7/26 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 蹇炜 |
主权项 | 1、一种用于跟踪图象中分段区域轮廓的装置,其中每个分段区域中所有象素为恒定的亮度电平,该装置包括:用于在图象内所有象素之中选择中心象素的装置,每个中心象素具有相同亮度电平的八个周围象素;用于以零值屏蔽中心象素的装置,由此为每个分段区域提供一闭合轮廓圈,其中在所述每个分段区域中每个中心象素的恒定亮度电平由零值亮度电平替代,并且闭合轮廓圈由具有恒定亮度电平的非零屏蔽象素组成;用于通过从闭合轮廓圈上非零屏蔽象素中选择一跟踪象素,启动对于闭合轮廓圈的轮廓跟踪的装置;用于将相邻象素与跟踪象素相比较,以确定是否多于一个相邻象素具有与跟踪象素相同的亮度电平的装置;用于基于一预定的相邻象素的优先权,通过在所述多于一个相邻象素中指定一个作为跟踪象素来更新轮廓跟踪的装置;用于重复进行更新轮廓跟踪的程序,直到指定的相邻象素与第一次选出的跟踪象素相重合时为止的装置;及用于对每个跟踪象素提供其位置信息,由此对闭合轮廓圈完成轮廓跟踪的装置。 | ||
地址 | 韩国汉城 |