发明名称 一种氮化镓单晶的热液生长方法
摘要 本发明涉及一种氮化镓单晶的生长方法。本发明通过在高压釜的内腔壁上加附惰性材料衬里,并利用控温系统提供一个温场,从而在氨热中生长出氮化镓单晶。本发明的温度和压力都不太高(温度为400-600℃,压力为1000-1800巴)、设备简单、成本低廉而高效,氮化镓产率高,便于工业化批量生产GaN单晶材料。生长出的氮化镓单晶的直径大于20μm,长度为毫米量级,具有很大的实用价值。
申请公布号 CN1113988C 申请公布日期 2003.07.09
申请号 CN99119719.4 申请日期 1999.09.29
申请人 中国科学院物理研究所 发明人 陈小龙;许燕萍;兰玉成;曹永革;许涛;蒋培植;陆坤权;梁敬魁;俞育德
分类号 C30B29/40 主分类号 C30B29/40
代理机构 代理人
主权项 1、一种氮化镓单晶的热液生长方法,所用的原料为高纯金属镓(6)、卤化氨盐(10)、高纯液氨(5),其特征在于:包括以下步骤:(1)将拟参与反应原料和内腔壁附有衬里(8)的高压釜体(2)及 其密封塞(1)、密封帽(3)全部装入真空手套箱中,并抽气使 该手套箱的真空度达到10-2乇,所用衬里为惰性材料,所用的 高压釜体事先经液氮冷却处理;(2)在真空手套箱中,按8∶2~9∶1的摩尔比称量高纯金属镓(6) 和卤化氨盐(10);(3)按65~90%的充满度倒入高纯液氨(5);(4)立即把密封塞(1)和密封帽(3)装在高压釜体(2)上,拧紧, 并加以初步密封,所有操作都是快速进行;(5)在密封工作台上将高压釜作进一步密封;(6)将封好的高压釜取出,放入一台两段式电阻加热炉(4)内,通 过热电偶(7)控制加热升温至400~600℃,并利用控温系统 使高压釜上下的温度差为20-150℃;(7)恒温3~6天,即可在高压釜的中部或上部获得无色透明的六 方柱状产物(9)。
地址 100080北京市603信箱谷冬梅