发明名称 等离子体显示屏上下基板组件的制作方法
摘要 本发明提出了一种制作等离子体显示屏(PDP)上下基板组件的方法,首先对等离子体显示屏(PDP)基板玻璃进行表面改性,通过控制浆料在基板玻璃表面的延展性,来满足等离子体显示屏(PDP)上下基板不同组件的制作要求,再用丝网印刷的方法制作电极、障壁、介质层等等。用此种方法制作的电极和障壁图形断线率低、精度高,制作的介质层表面平滑、厚度均匀;同时,由于处理过的基板玻璃耐水洗,在一段时间内可存放,在一定程度上又简化了制作工序,提高了生产效率。本发明提出的方法既继承了厚膜制作成本低廉、适合批量生产等优点,又在一定程度上提高了制作质量。
申请公布号 CN1411017A 申请公布日期 2003.04.16
申请号 CN02139442.3 申请日期 2002.09.24
申请人 西安交通大学 发明人 徐伟军;陈瑜;孙鉴
分类号 H01J9/02;H01J9/00 主分类号 H01J9/02
代理机构 西安通大专利代理有限责任公司 代理人 李郑建
主权项 1.一种等离子体显示屏(PDP)上下基板组件的制作方法,其特征在于,按以下方式进行:1)配与玻璃表面发生化学反应的预处理液针对制作的不同组件配制不同的处理液:制作电极、障壁时,采用硅烷的水溶液、醇溶液和氢氟酸等对等离子体显示屏(PDP)的基板玻璃进行预处理;其中水溶液:0.1%-5%的硅烷,0.1-5%的异丙醇,0.1%-5%的乙酸,99.7%-85%的去离子水;或者0.1%-5%的硅烷,0.1%-5%的异丙醇,0.2%-10%的乙酸,0.1%-3%二甲基苄胺,99.5%-77%的去离子水;醇溶液:0.1%-5%的硅烷,1-20%的去离子水,98.9%-75%的纯度在99.5%以上的乙醇;氢氟酸:浓度为30%-40%的氢氟酸溶液; 制作介质层时采用高浓度的硅烷溶液对等离子体显示屏(PDP)的基板玻璃进行预处理;其中硅烷溶液浓度应大于90%;2)用配好的溶液,在室温下浸泡已进行过清洗和退火等工艺处理的等离子体显示屏(PDP)基板玻璃,时间为5h以上,或增加溶液的温度到100℃,可减少浸泡时间到1h左右,采用氢氟酸溶液时,浸泡时间控制在15min-25min,然后取出玻璃清洗并干燥20min-40min;3)用丝网印刷的方法在处理过的玻璃表面印刷所要的浆料,制作电极、障壁和介质层等,最后进行干燥和高温热处理。
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