| 主权项 |
1.一种将尤其是结晶之涂层沈积在一或多个尤其是同为结晶之基质上的装置,包括一设在反应器外壳(2)中的程序室(1),其可由上方经一可以一盖体(8)密封的反应器开口而装载基质,该反应器的外壳开口设在一充填纯气体的手套箱上,电流、液体或气体连接管线(16,17)延伸至盖体(8),其中,电流、液体或气体连接管线(16,17)由手套箱(15)之外部自由穿过一挠性软管(13)而延伸至盖体(8),该软管一端与一固定设在盖体(8)上方的法兰连接式机构(7)的另一端与手套箱壁(14)之一开口(14')紧密连接。2.如申请专利范围第1项之装置,其中,法兰连接式机构(7)藉一支架(9)而固定在盖体(8)上方并与其有一距离。3.如申请专利范围第1项之装置,其中,法兰连接式机构(7)是一塑胶板,设有供应管线(16,17)之气密穿通套管或螺丝接头。4.如申请专利范围第1项之装置,其中,设一经一进气机构(6)而与盖体(8)固定连接的程序室(1)之盖板(4)。5.如申请专利范围第1项之装置,其中,设一与盖体(8)固定连接,尤其是水冷却的高频线圈(19),以加热盖板(4)。6.如申请专利范围第1项之装置,其中,盖板(4)与载板(3)可分开加热。7.如申请专利范围第1项之装置,其中,设一被驱动旋转的载板(3),其上设有可在一气垫上旋转的基质座(45)。8.如申请专利范围第1项之装置,其中,法兰连接式机构(7)直接平行设在开口(14')之下方。9.如申请专利范围第1项之装置,其中,法兰连接式机构(7)与开口(14')的截面积大致相同。图式简单说明:图1系本发明反应器示意图,其由设在反应器外壳中的程序室与穿过手套箱壁一开口的供应管线构成。图2系法兰连接式机构俯视图。 |
