| 发明名称 | 光刻胶的涂覆装置和涂覆方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供在光刻中涂光刻胶时，提高图形精度的光刻胶的涂覆装置和涂覆方法。具有：光刻胶(12)的贮存容器(10)；用于形成光刻胶(12)的膜的涂覆台(40)；从贮存容器(10)向涂覆台(40)导入光刻胶(12)的管道(52、54、56)；和在比涂覆台(40)还往上游处改善光刻胶(12)的质量的质量改善台(30)。 | ||
| 申请公布号 | CN1101280C | 申请公布日期 | 2003.02.12 |
| 申请号 | CN97192717.0 | 申请日期 | 1997.06.20 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 泽本俊宏 |
| 分类号 | B05C11/10;B05C1/08;B05D1/40 | 主分类号 | B05C11/10 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1、一种光刻胶涂覆装置，具有：光刻胶的贮存容器；用于形成上述光刻胶的膜的涂覆台；从上述贮存容器向上述涂覆台导入上述光刻胶的管道；比上述涂覆台还处于上游，用于除去来自上述光刻胶的异物和气泡的质量改善台，上述质量改善台在从上述气泡的除去过程的流出一侧过滤并送出上述光刻胶。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||