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发明名称 IMPLANTATION PROCESS USING SUB-STOICHIOMETRIC, OXYGEN DOSES AT DIFFERENT ENERGIES
摘要
申请公布号 KR20020094003(A) 申请公布日期 2002.12.16
申请号 KR1020027014649 申请日期 2002.11.01
申请人 发明人
分类号 H01L21/265 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
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