发明名称 | 用于回收磨料的设备 | ||
摘要 | 一种用于从使用基于硅石的磨料液的CMP过程所排放的废液中回收磨料的设备。该设备包括一个薄膜分离装置,可将CMP过程所排放的废液注入到该薄膜分离装置中,还包括一个洗涤装置,通过该洗涤装置用水来洗涤通过薄膜分离装置所获得的浓缩磨料液,还包括一个调整装置,通过该调整装置来调整从洗涤装置获得的浓缩磨料液的pH值和浓度。该设备还包括一个前过滤装置,用于除去粗颗粒,该前过滤装置位于薄膜分离装置之前或之后,以及一个后过滤装置,该后过滤装置位于调整装置之后。磨料颗粒可以有效地从半导体制造工厂的CMP过程所排放的废液中回收并加以再利用。 | ||
申请公布号 | CN1384061A | 申请公布日期 | 2002.12.11 |
申请号 | CN02118857.2 | 申请日期 | 2002.04.29 |
申请人 | 栗田工业株式会社 | 发明人 | 松本章 |
分类号 | C02F1/44;C02F1/66 | 主分类号 | C02F1/44 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 付建军 |
主权项 | 1.一种用于从使用基于硅石的磨料液的CMP过程所排放的废液中回收磨料的设备,该设备包括一个薄膜分离装置,将CMP过程所排放的废液注入到该薄膜分离装置中,还包括一个洗涤装置,通过该洗涤装置用水来洗涤通过薄膜分离装置所获得的浓缩磨料液,还包括一个调整装置,通过该调整装置来调整从洗涤装置获得的浓缩磨料液的pH值。 | ||
地址 | 日本东京 |