| 发明名称 | 相位差薄膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 制造相位差薄膜的方法,该方法包括以调整的混合比将相互相容的至少两种聚合物(A)和(B)混合,并使得到的混合物成型为薄膜。聚合物(A)和(B)是共聚物,其包含两种共同的重复单元,在共聚单体单元比例上相互不同。通过本方法,可容易地以工业规模制造出具有所需波长色散性的相位差薄膜。相位差波长色散性可得到高度控制。因此,该相位差薄膜具有高质量。 | ||
| 申请公布号 | CN1383495A | 申请公布日期 | 2002.12.04 |
| 申请号 | CN01801769.X | 申请日期 | 2001.04.24 |
| 申请人 | 帝人株式会社 | 发明人 | 内山昭彦;辻仓正一;串田尚 |
| 分类号 | G02B5/30;C08J5/18;C08L69/00;//C08L101:00 69:00 | 主分类号 | G02B5/30 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝;郭广迅 |
| 主权项 | 1.一种制备相位差薄膜的方法，该方法包括混合相互相容的且满足下述条件(1)和(2)的聚合物A和B，并使所得混合物成型为薄膜的步骤，其中调节混合比例以使薄膜具有所希望的相位差波长色散特性：(1)聚合物A是包含重复单元a和b的共聚物，和(2)聚合物B是包含所述重复单元a和b的共聚物，并且其与聚合物A的共聚合组成不同。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||