| 摘要 |
<p>L'invention concerne un procédé et un appareil d'inspection de substrats de transmission à motif, comme des photomasques pour des particules et des caractéristiques non-désirées se produisant sur les défauts de motif aussi bien que sur ceux de transmission. Un substrat de transmission est éclairé par un laser grâce à un système optique composé d'un appareil à balayage laser, des éléments optiques de collection de la lumière réfléchie et transmise de manière individuelle et des détecteurs collectent et produisent des signaux représentatifs de la lumière réfléchie et transmise par le substrat. On obtient l'identification par défaut du substrat en n'utilisant que les signaux de lumière réfléchie et transmise et d'autres signaux dérivés de ceux-ci comme des représentations par l'échelle des gris et des caractéristiques d'image. On réalise l'identification par défaut au moyen d'un algorithme d'inspection de motif du présent substrat en comparant l'image d'une représentation idéale de celui-ci et en utilisant un algorithme de déphasage avancé qui prend en compte des types particuliers d'anomalies attendues.</p> |
