发明名称 APPARATUS AND METHOD FOR DEPOSITION OF THIN FILMS
摘要 초전도성 박막과 같은 다성분 박막 형성용 장치는 적어도 하나의 기판을 지탱하기 위한 기판홀더 104 및 증착/반응 용기를 포함한다. 증착/반응 용기 102는 적어도 세 개의 구역들 114를 구비하는데, 각 구역은 벽 120에 의해 인접한 구역들로부터 분리되어 있다. 상기 구역들에는, 각자 적어도 하나의 기판 상에 증착물질 126을 증착하도록 형상화 및 배열되어 있는 적어도 두 개의 증착구역 116, 및 증착물질을 반응물과 반응시키기 위한 적어도 하나의 반응구역 118이 포함된다. 상기 장치는 적어도 하나의 기판을 다수 개의 구역들을 순차적으로 관통해 회전시켜 그 기판 상에 박막을 형성하도록 형상화 및 배열되어 있다. 상기 장치의 일부 구현예에서, 증착/반응 용기는 교호하는 동일한 갯수의 증착구역들 및 반응구역들을 포함한다.
申请公布号 KR20020086502(A) 申请公布日期 2002.11.18
申请号 KR20027010162 申请日期 2002.08.07
申请人 컨덕투스, 인코포레이티드 发明人 마티야세빅,블라디미르;카플란토드
分类号 C23C14/24;C23C14/08;C23C14/50;C23C14/54;C23C14/56;C23C14/58;H01B12/06;H01B13/00;H01L39/24 主分类号 C23C14/24
代理机构 代理人
主权项
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