| 发明名称 | 样品基质去除装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种样品基质去除装置,该样品基质去除装置包括:由耐热材质所构成的架子,在架子上有凹洞。由一耐热材质所构成的杯子,杯子的高度高于这些凹洞的深度且杯子适于置入凹洞中。此样品基质去除装置可以降低外来污染的导入,还可以缩短样品前处理时间。 | ||
| 申请公布号 | CN1378073A | 申请公布日期 | 2002.11.06 |
| 申请号 | CN01110216.0 | 申请日期 | 2001.04.02 |
| 申请人 | 华邦电子股份有限公司 | 发明人 | 廖宜宽;罗卿文 |
| 分类号 | G01N1/28;G01N23/223;G01N21/31;G01N21/73 | 主分类号 | G01N1/28 |
| 代理机构 | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人 | 王学强 |
| 主权项 | 1、一种样品基质去除装置，其特征在于：其包括：一石英板，石英板上存在至少一凹洞，凹洞的容积介于0.5毫升至5毫升之间；以及至少一杯子，杯子的材质为耐热材质，杯子的高度高于凹洞的深度且杯子适合置入凹洞中。 | ||
| 地址 | 台湾新竹科学工业园区研新三路四号 | ||