发明名称 | 化学放大抗蚀剂聚合物及使用该聚合物的抗蚀剂组合物 | ||
摘要 | 本发明涉及一种化学放大抗蚀剂用的聚合物和一种使用该聚合物的抗蚀剂组合物。本发明提供了一种分子式(1)表示的聚合物和一种使用该聚合物的对远紫外光产生反应的化学放大的抗蚀剂组合物。含有分子式(1)聚合物的该化学放大的抗蚀剂组合物对微型平板印刷工艺中的单一波长能产生感应以及能在基片上实现高分辨率的微型图案。 | ||
申请公布号 | CN1378661A | 申请公布日期 | 2002.11.06 |
申请号 | CN00813991.1 | 申请日期 | 2000.08.25 |
申请人 | 东进瑟弥侃株式会社 | 发明人 | 金德倍;金炫辰;崔容准;郑允植 |
分类号 | G03F7/039 | 主分类号 | G03F7/039 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 黄益芬;巫肖南 |
主权项 | 1.一种用于化学放大的抗蚀剂组合物的聚合物,由下述分子式1表示:[分子式1]其中,R1是氢或甲基,R2是氢或CH2CH2COOC(CH3)3,R3是Cl、Br、羟基、氰基、叔丁氧基、CH2NH2、CONH2、CH=NH、CH(OH)NH2或C(OH)=NH,x+y+z=1,x是0.1-0.9,y是0.01-0.89,z是0.01-0.89,n是1或2,和当n是2时,两个R2均相同。 | ||
地址 | 韩国仁川市 |