PIXELLATED DEVICES SUCH AS ACTIVE MATRIX LIQUID CRYSTAL DISPLAYS

摘要

액정 디스플레이를 위한 활성 판을 형성하는 방법이 개시되어 있는데, 여기서는, 소스 및 드레인 전도체(28, 30), 픽셀 전극(38) 및 열 전도체(32)가 투명 전도체 층을 증착 및 패턴화시킴으로써 형성된다. 투명 전도체 층의 저항률을 감소시킬 목적으로 금속 층을 형성하기 위해서 투명 전도체 층의 영역(52;60)을 선택적으로 도금하는 것이 존재한다. 도금된 영역은 열 전도체(32)는 포함하지만 소스 및 드레인 전도체와 픽셀 전극은 포함하지 않는다. 이것은, 열 전도체로 하여금 트랜지스터의 채널 길이를 바꾸지 않고도 저항률을 감소시키도록 처리될 수 있게 하는데, 그 이유는 상기 층의 소스 및 드레인 부분이 도금 처리로부터 차단되기 때문이다.