A METHOD OF FABRICATION FINE CIRCUIT

摘要

본 발명의 미세회로 형성방법은 소정의 두께를 갖는 포토레지스트층에 개구영역을 형성한 후 이온빔을 비스듬히 조사하여 절연층을 에칭한다. 이온빔의 조사각도와 포토레지스트층의 두께에 따라 절연층의 에칭영역이 결정되며 에천트를 작용시킴에 따라 절연층의 에칭영역에 대응하는 미세회로를 구현할 수 있게 된다.