发明名称 RADIATION EMITTING SEMICONDUCTOR BODIES AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
摘要 <p>Die strahlungserzeugende Schichtenfolge (2) ist direkt auf einer Fensterschicht (3) aufgewachsen, die eine oder eine Mehrzahl von aufeinanderfolgenden AlgaAs-Schichten (4, 5, 6) aufweist. Die AlGaAs-Schichten sind mittels Flüssigphasenepitaxie oder einem ähnlichen Verfahren hergestellt und weisen entfernt von der Schichtenfolge (2) jeweils einen Al-Gehalt auf, bei dem AlGaAs für die erzeugte Strahlung durchlässig ist. Der Al-Gehalt nimmt, in jeder der AlGaAs-Schichten (4, 5, 6) in Richtung zur aktiven Schichtenfolge (2) hin ab. Die Fensterschicht (3) besteht alternativ aus einem freitragenden AlGaAs-Epitaxiesubstrat (7), das einen Al-Gehalt aufweist, bei dem AgGaAs für die erzeugte Strahlung durchlässig ist.</p>
申请公布号 WO2002065555(A1) 申请公布日期 2002.08.22
申请号 DE2001004293 申请日期 2001.11.15
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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