发明名称 带有气体添加物的窄带气体放电激光器
摘要 本发明提供一种非常窄带宽脉冲准分子激光器,它能以大约500-2000Hz的速率产生脉冲,并具有增强的能量剂量控制以及重复性。混合气体中加入了很少量的稳定添加物,其中包括氧或一较重的稀有气体(对于KrF激光器来说为氙或氡,对于ArF激光器来说为氪、氙或氡)。所进行的试验表明,通过在KrF激光器中加入大约30ppm氙,使能量稳定性得到实际的提高。试验还表明,通过加入约6-10ppm氙或40ppm氪使ArF激光器性能提高。一较佳实施例中,通过将氟分气压降至0.10%以下并提高输出耦合器反射率达到25%以上,在一KrF激光器上实现非常窄的带宽。另一较佳实施例中,现有技术线宽收窄模块所用的现有熔融石英光束扩展棱镜由氟化钙棱镜替代。
申请公布号 CN1365529A 申请公布日期 2002.08.21
申请号 CN00810951.6 申请日期 2000.06.29
申请人 西默股份有限公司 发明人 H·A·拜叟谢利;石原俊彦;T·霍夫曼
分类号 H01S3/22 主分类号 H01S3/22
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 赵国华
主权项 1.一种气体放电激光器包括:A.激光器腔体包括与氟相容的材料,并包含:(1)2个细长电极;(2)至少1个预电离器;以及(3)一定义总气压的激光器气体,包括第一稀有气体、氟、一缓冲气体以及小于10ppm的稳定添加物;所述稳定添加物选自一组气体,其中包括:10ppm以下的氧以及比第一稀有气体重的某一数量的第二稀有气体。
地址 美国加利福尼亚州