| 摘要 |
<p>본 발명은 시계와 같은 대인 장식용 제품의 장식성 향상 및 공구나 기계류 그리고 금형 제품의 수명향상을 위하여 반응성 스퍼터링에 의한 질화 티타늄 박막을 형성시키는 방법에 관한 것으로, 불활성 가스와 반응성 가스가 혼합된 가스 분위기에서 티타늄 타겟이 장착된 스퍼터링 증발원을 이용하고 글로우방전을 이용하여 티타늄 화합물 박막을 제조하는 방법에 있어서, 불활성 가스와 반응성 가스가 혼합된 가스 분위기에서 티타늄 타겟이 장착된 스퍼터링 증발원을 이용하고 글로우방전을 이용하여 티타늄 화합물 박막을 제조하는 방법에 있어서, 증발원으로 비평형 마그네트론 스퍼터링 증발원을 이용하되, 증발원(2)(2')을 두개로 하여 양측에 대향 배치하고, 상기 각 증발원(2)(2')측에 전자석(3)(3')을 구비시키며, 상기 증발원(2)(2')과 30∼45cm 범위내의 중앙부에 기판(4)을 위치시키고, 상기 전자석(3)(3')의 자기장 극성을 반대로 하여 자기장이 상기 기판(4) 부근에서 합쳐져 상기 기판(4)을 감싸는 형태가 되도록 유도하여 상기 기판(4) 중심부의 자기장의 세기를 15∼35 가우스 범위로 조절하며, 기판 전류를 160∼240mA 범위로 하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.</p> |
