首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
FOCUS RING, PLASMA ETCHING APPARATUS AND PLASMA ETCHING METHOD
摘要
申请公布号
KR100686763(B1)
申请公布日期
2007.02.26
申请号
KR20050104040
申请日期
2005.11.02
申请人
发明人
分类号
H01L21/3065
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
液晶显示装置和投影型液晶显示设备
生产用自动组装测试流程的方法
光接收放大器电路和配有它的光拾取单元
产生旋转速度相关信号的装置和电子整流直流电动机
可视化技术信息挖掘系统和方法
移动通信网络协议信令分析系统和方法
具有薄膜电晶体的基板及其修补方法
用于制造半导体器件的烘烤系统
具有可变电阻的光学式指纹检测器
空调机的室外机
一种硝酸异丙酯的贮存方法
Method of counteracting an ethylene response in plants
METHODS FOR PRODUCING A PAIRED TAG FROM A NUCLEIC ACID SEQUENCE AND METHODS OF USE THEREOF
Process for manufacturing high viscosity HTV silicone compositions
Plasma display apparatus and driving method thereof with APL dependent initialization
Halftone phase shift mask blank, and method of manufacturing the same
DNA单分子有序化测序方法
User authentication system
Lancet for skin pricker
Electronic component, circuit board, electronic apparatus, and method for manufacturing the electronic component
