发明名称 scrubber system of semiconductor device manufacturing equipment
摘要 <p>본 발명은 하우징의 일측으로 제조설비로부터 배출가스를 유도하는 배관의 단부와 연통 연결되는 유입부와, 상기 하우징의 다른 일측 부위에 배기덕트로 연결되는 다른 배관의 단부와 연통 연결되는 배출부와, 상기 하우징의 측부를 관통하여 설치되며 외부의 쇼트펄스 파워제너레이터에 연결되는 애노드/캐소드전극단자와, 상기 하우징의 측부 소정 위치에 외부의 집진기 파워제너레이터와 연결되는 집진전극단자와, 상기 하우징 내부에 캐소드전극단자에 고정되며 상부 소정부위에 배출가스의 유동통로를 이루는 구멍이 형성된 캐소드전극관과, 상기 캐소드전극관의 내측벽에 일정 간격으로 대응하도록 캐소드전극관의 구멍을 통해 연장된 애노드전극단자에 고정되는 애노드전극관, 및 상기 애노드전극관의 외측부위에 근접 대응하는 소정 용기 형상으로 집진전극단자에 고정 설치되는 집진관을 구비함으로써, 배출가스 중 PFC 계열 가스의 분해 효율을 높이도록 하고, PFC 계열 가스의 분해시 NOx나 SOx와 같은 2차 유해가스가 생성되는 것을 방지토록 하며, 수소 가스와 전기히터의 미사용으로 폭발 위험성과 장치의 안전성 및 전력 소모량을 감소토록 하는 반도체장치 제조설비의 스크러버 시스템을 제공한다.</p>
申请公布号 KR100335508(B1) 申请公布日期 2002.05.21
申请号 KR19990022284 申请日期 1999.06.15
申请人 null, null 发明人 배규호;방철용;오세태;박순규
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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