发明名称 多胺基-1,3,5-三化合物,含有该化合物之安定剂组合物,使用该组合物以安定有机物质免于降解之方法以及制备该组合物之方法
摘要 此处说明一种新颖的吗末端加盖的多胺基-1,3,5-三,其作为要脱水(例如藉光化幅射)的物料光安定剂的用途,以此等吗末端加盖的多胺基-1,3,5-三为基础的安定剂组合物,及其合成方法。
申请公布号 TW479068 申请公布日期 2002.03.11
申请号 TW087118361 申请日期 1998.11.04
申请人 氰特科技股份有限公司 发明人 马汀L.可汗
分类号 C08K5/16 主分类号 C08K5/16
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种通式(I)化合物其中R1是选自氢,烃基,烃基氧基及式(II)基团每一R2是独立选自氢,氧基,羟基,烃基及烃基氧基;每一R3是独立选自1至5个碳原子的烷基;每一R4及R5是独立选自烃基;n是2-12;及x是1-50,其特点是每一R4是吗福基,及R5是环己基。2.根据申请专利范围第1项之化合物,其中R1是选自氢及式(II)之基团。3.根据申请专利范围第1项之化合物,其中R2是选自氢,1至4个碳原子的烷基,1至4个碳原子的烷氧基及乙醯基。4.根据申请专利范围第1项之化合物,其中R3是甲基。5.根据申请专利范围第1项之化合物,其中n是4-8。6.根据申请专利范围第1项之化合物,其中x是1-20。7.根据申请专利范围第1项之化合物,其中R1是选自氢及式(II)之基团;R2是选自氢,1至4个碳原子的烷基,1至8个碳原子的烷氧基及乙醯基;每一R3是甲基;n是4-8;及x是1-20。8.根据申请专利范围第1项之化合物,其中R1是选自氢及式(II)之基团;R2是选自氢,1至4个碳原子的烷基,1至4个碳原子的烷氧基及乙醯基;每一R3是甲基;n是4-8;及x是1-20。9.根据申请专利范围第7项之化合物,其中n是6及x是1-15。10.一种安定剂组合物,其含有通式(I)化合物之混合物:其中R1是选自氢,烃基,烃基氧基及式(II)基团每一R2是独立选自氢,氧基,羟基,烃基及烃基氧基;每一R3是独立选自1至5个碳原子的烷基;每一R4及R5是独立选自烃基;n是2-12;及x是1-50,其特点是每一R4是吗福基,每一R5是环己基,该混合物之Mn为1200至3000,及Mw为2000至5500。11.根据申请专利范围第10项之安定剂组合物,其中于通式(I)中:R1是选自氢及式(II)之基团;R2是选自氢,1至4个碳原子的烷基,1至8个碳原子的烷氧基及乙醯基;每一R3是甲基;n是4-8;及x是1-20。12.根据申请专利范围第10项之安定剂组合物,其中于通式(I)中:R1是选自氢及式(II)之基团;R2是选自氢,1至4个碳原子的烷基,1至4个碳原子的烷氧基及乙醯基;每一R3是甲基;n是4-8;及x是1-20。13.根据申请专利范围第10项之安定剂组合物,其中n是6及x是1-15。14.根据申请专利范围第10项之安定剂组合物,其Mn为1500至2500,及其Mw为2400至4500。15.根据申请专利范围第10项之安定剂组合物,尚含有另一安定添加物。16.根据申请专利范围第10项之安定剂组合物,其中另一安定添加物是选自抗氧化剂,紫外线吸收剂,另一立体位阻胺,亚磷酸盐,硫基协合剂及其混合物。17.一种安定有机物质免于降解的方法,其包括于有机物质内加安定有效量的根据申请专利范围第10项说明的安定剂组合物之步骤。18.一种制备含有通式(I)化合物混合物的组合物的方法:其中R1是选自氢,烃基,烃基氧基及式(II)基团每一R2是独立选自氢,氧基,羟基,烃基及烃基氧基;每一R3是独立选自1至5个碳原子的烷基;R4是吗福基;R5是环己基胺基;n是2-12;x是1-50,及该混合物之Mn为1200至3000,及Mw为2000至5500,此法的步骤是:(a)以2,4,6-三卤氰酸与环己胺基生成2,6-二卤-4-环己胺基-1,3,5-三中间体,如下式其中Hal是卤素;(b)以2,6-二卤-4-环己胺基-1,3,5-三中间体与下式之N,N-双(2,2,6,6-四甲基-4-六氢啶基)-,-(C2-C12)伸烷基二胺反应其中R2,R3及n之定义如前述,生成对应于式(I)化合物混合物之多胺基-1,3,5-三中间体,其中R1,R2,R3,R5,x,及n之定义如前述,及R4是Hal;及(c)用吗福处理步骤(b)所得多胺基-1,3,5-三中间体,制得此组合物。
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