| 主权项 |
1.一种污水处理装置,其包括:一处理槽1,其具有厌气部5.喜气部22.以及沈淀部28;一溶出槽8,其供给电流于铁材或铝所构成的电极12,而溶出铁离子或铝离子;一供给装置,用以将该溶出槽8内所溶出的铁离子或铝离子供给于处理槽1内的污水中;其特征在于:设置一装置,用以稀释从前述溶出槽8内的电极12产生的氢氢浓度至比危险浓度低的浓度。2.如申请专利范围第1项所述之污水处理装置,其特征在于:更包括一散气管14,用以供给空气于溶出槽8内的污水中;设置一设定装置,用以对应供给于前述电极12的总电流値,而设定对溶出槽8内的污水中之空气供给量。3.如申请专利范围第1项所述之污水处理装置,其特征在于:更包括一散气管14,用以供给空气于溶出槽8内的污水中;检测出供给于前述电极12的总电流値,且设置一控制装置57,用以根据检测出的总电流値,而控制对溶出槽8内的污水中之空气供给量。4.如申请专利范围第1项所述之污水处理装置,其特征在于:更包括一散气管14,用以供给空气于溶出槽8内的污水中;检测出供给于前述电极12的总电流値,且设置一控制装置57,用以根据检测出的总电流値,而供给下式的A所示的空气于溶出槽8内的污水中。A>0.179BA:L/分B:供给于电极的总电流値(安培)5.如申请专利范围第1项所述之污水处理装置,其中更包括设置一排气装置59,用以将前述溶出槽8内的污水上方的空气排出,同时,检测出供给于前述电极12的总电流値,且设置一设定装置,用以根据检测出的总电流値,而设定前述排气装置59的排气量。6.如申请专利范围第1项所述之污水处理装置,其中设置一排气装置59,用以将前述溶出槽8内的污水上方的空气排出,同时,检测出供给于前述电极12的总电流値,且设置一控制装置57,用以根据检测出的总电流値,而控制前述排气装置59的排气量。7.如申请专利范围第1项所述之污水处理装置,其中设置一排气装置59,用以将前述溶出槽8内的污水上方的空气排出,同时,检测出供给于前述电极12的总电流値,且设置一排气控制装置57,用以根据检测出的总电流値,而控制下式的A所示的空气从溶出槽8内排出。A>0.179BA:L/分B:供给于电极的总电流値(安培)8.如申请专利范围第1项所述之污水处理装置,其中设置一送风装置,用以供给空气于前述溶出槽8内的污水上方的空间,且设置一设定装置,对应于供给于前述电极12的总电流値,而设定送风装置的送风量。9.如申请专利范围第1项所述之污水处理装置,其中设置一送风装置,用以供给空气于前述溶出槽8内的污水上方的空间,同时,检测出供给于前述电极12的总电流値,且设置一控制装置57,用以根据检测出的总电流値,而控制前述送风装置的送风量。10.如申请专利范围第1项所述之污水处理装置,中设置一送风装置,用以供给空气于前述溶出槽8内的污水上方的空间,同时,检测出供给于前述电极12的总电流値,且设置一控制装置57,用以根据检测出的总电流値,而供给下式的A所示的空气于溶出槽8内。A>0.179BA:L/分B:供给于电极的总电流値(安培)图式简单说明:第1图为本发明第1实施例之污水处理装置的剖面图。第2图为同上由其他方向观看之剖面图。第3图为同上溶出槽之放大剖面图。第4图为同上分水计量装置之立体图。第5图为本发明第2实施例之污水处理装置的剖面图。第6图为同上从其他方向观看的剖面图。第7图为同上溶出槽之放大剖面图。 |
