| 主权项 |
1.一种超音波洗净装置,其系包含:超音波洗净部, 其系包含可经由洗净液供应口,将照射了超音波的 洗净液,供应给被洗净物的洗净液供应装置;振动 元件,其系位于上述洗净供应口上游侧的洗净液流 通路径内,用以发出超音波者;洗净液的流通路径, 其系位于紧靠在上述振动元件的下游侧,并且由上 游至下游,配管方向始终介于水平至向上之间者。 2.如申请专利范围第1项之超音波洗净装置,其中上 述的洗净液供应装置,系对已供应上面用洗净液至 上面的被洗净物的下面,供应洗净液者。3.如申请 专利范围第2项之超音波洗净装置,其上述的超音 波频率,系介于 0.1MHz-10MHz的范围内者。4.如申请专利范围第2项之 超音波洗净装置,其系设有洗净液去除装置,用以 去除供应至被洗净物上面的上面用洗净液者。5. 如申请专利范围第1项之超音波洗净装置,其又设 有洗净液加热装置者。6.如申请专利范围第2项之 超音波洗净装置,其上述洗净液供应口的开口宽度 ,介于1mm以上30mm以上的范围内者。7.如申请专利范 围第1项之超音波洗净装置,其上述振动元件系包 含:超音波发振子、振动板,并且该上述的超音波 振动子完全只固定在振动板上者。8.如申请专利 范围第2项之超音波洗净装置,系设有一种搬运装 置,其系位于上述洗净液供应装置的上方,用以对 多数个被洗净物加以水平支撑,并且朝单一方向连 续进行搬运者。9.一种洗净方法,其系包含:供应上 面用洗净液的步骤,其系以被洗净物的上面为对象 ;及供应经过超音波照射的洗净液的步骤,其系以 被洗净物的下面为对象。10.一种光阻剥离装置,其 系包含:剥离液供应装置,其系为了剥离被处理物 面上的光阻剂,用以将光阻剂剥离液,供应到光阻 剂被处理物的光阻处理面上者;液体供应装置,其 系对光阻剂剥离液供应对象的被处理面的反面,用 以供应经过超音波照射的液体者。11.如申请专利 范围第10项之光阻剥离装置,其上述的超音波频率, 系介于 0.1MHz-10MHz的范围内者。12.如申请专利范围第10项 之光阻剥离装置,其系设有液体加热装置,用以加 热上述液体者。13.如申请专利范围第10项之光阻 剥离装置,其上述的液体为光阻剂剥离液者。14.如 申请专利范围第10项之光阻剥离装置,其系能够藉 由上述的剥离液供应装置,逐一对每个光阻剂股处 理面,供应上述的光阻剂剥离液者。15.如申请专利 范围第10项之光阻剥离装置,其系设有一种加热的 加热装置,用以对上述光阻剂被处理物及/或光阻 剂剥离液进行加热者。16.如申请专利范围第10项 之光阻剥离装置,其系设有一种剥离液去除装置, 用以去除含有剥离的光阻剂之光阻剂剥离液者。 17.如申请专利范围第10项之光阻剥离装置,其包含 之上述液体供应装置中,用以将经由超音波照射的 液体,供应至上述被处理物反面者的喷嘴口40a,系 具有介于1mm以上30mm以下宽度者。18.如申请专利范 围第10项之光阻剥离装置,其包含一种搬运装置,系 用以对多数个光阻剂被处理物,在该处理物的光阻 处理面朝上的情况下,水平地进行搬运,并且在该 搬运装置的上方或是下方,设有上述剥离液供应装 置者。图式简单说明: 第一图其系以本发明的实施例的超音波洗净装置 为对象,为该超音波洗净部概略构造的侧面图。 第二图其系以本发明的实施例中的超音波洗净装 置为对象,为其构造上的说明图。 第三图其系以用来照射下面用洗净液的超音波频 率,以及附着在基板上的微粒的去除率为对象,呈 现两者之间关系的图表。 第四图其系以本发明的其他实施例中的超音波洗 净装置为对象,为该超音波洗净部概略构造的侧面 图。 第五图(a)其系以本发明的另外的其他实施例的超 音波洗净装置为对象,为该超音波洗净部概略构造 的侧面图。 第五图(b)其系以做为洗净液供应装置之用的超音 波喷嘴为对象,为其概略构造的侧面图。 第六图其系以本发明的另外的其他实施例的光阻 剥离装置为对象,为该剥离处理部概略构造的侧面 图。 第七图其系以本发明的另外的其他实施例中的光 阻剥离装置为对象,为该剥离处理部概略构造的侧 面图。 第八图其系以本发明的另外的其他实施例中的光 阻剥离装置为对象,为该剥离处理部概略构造的侧 面图。 第九图(a)其系以本发明的另外的其他实施例的光 阻剥离装置为对象,为该剥离处理部概略构造的侧 面图。 第九图(b)其系以做为液体供应装置之用的超音波 喷嘴为对象,为其概略构造的剖面图。 第十图其系以过去技艺的喷洒式超音波装置的超 音波洗净部为对象,为其概略构造的侧面图。 |
