发明名称 乙烯基4–叔–丁氧基羰氧亚基–乙烯基醇–乙烯乙酸酯共聚物,乙烯基4–叔–丁氧基羰氧基亚基–乙烯基4–羟基亚基–乙烯基醇–乙烯乙酸酯和其制备方法制备方法
摘要 一种适合作为光阻剂之用的乙烯基-4-羟基亚基-乙烯基醇-乙烯乙酸酯共聚物、一种乙烯基-4-叔-丁氧基羰氧基亚基-乙烯基醇-乙烯乙酸酯共聚物、以及一种乙烯基-4-叔-丁氧基羰氧基亚基-乙烯基-4-羟基亚基-乙烯基醇-乙烯乙酸酯共聚物,以及制备它们的方法。在后二种共聚物中,其全部或部份之乙烯基-4-羟基亚基是被叔-丁氧基羰基所保护。由于这种受保护的共聚物具有优异之透明度、耐热度、机械强度,以及容易粘附至矽板的特性,加上在曝光后的热处理中仅会失去少许重量,所以利用它们所制成之光阻剂可以提高精密电路的解析度。
申请公布号 TW452588 申请公布日期 2001.09.01
申请号 TW085114638 申请日期 1996.11.27
申请人 现代电子产业股份有限公司;科学技术院 发明人 金镇伯;金贤友
分类号 C08L27/04 主分类号 C08L27/04
代理机构 代理人 林镒珠 台北市长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种具有重量平均分子量范围自3,000至30,000之光阻剂中间物物质,其系以下列通式I表示:(I)其中a系介于5-70的莫耳%;b系介于1-60的莫耳%;及c系介于0-40的莫耳%。2.一种制备如申请专利范围第1项之光阻剂中间物物质之方法,其包括:(a)在50-140℃的温度下,在二甲替甲醯胺或蒸馏水中,将具有重量平均分子量范围自2,000至25,000之聚(乙烯基醇)与4-羟基苯醛反应;(b)加入选自盐酸、硫酸及磷酸所组成之族群中之酸催化剂至步骤(a)之生成溶液中;及(c)过滤步骤(b)中之生成溶液。3.如申请专利范围第2项之方法,其中该酸催化剂的存在量为每100重量份的全部反应溶液中占1-20重量份。4.一种具有重量平均分子量范围自3,000至30,000之光阻剂共聚物,其系以下列通式II表示:(II)其中x系介于5-70的莫耳%;y系介于1-60的莫耳%;及z系介于0-40的莫耳%。5.一种制备如申请专利范围第4项之光阻剂共聚物之方法,其包括:(a)在二甲替甲醯胺中,以及选自特-丁氧化物、三乙胺、碳酸钙及氢化钠所组成之族群中之硷的存在下,将申请专利范围第1项之光阻剂中间物物质与二(特-丁基重碳酸盐)反应,藉着特-丁氧基羰基以保护全部或部份之4-羟基亚基;(b)纯化获得自步骤(a)之生成沈淀物;及(c)乾燥步骤(b)之生成物。6.一种具有重量平均分子量范围自3,000至30,000之光阻剂共聚物,其系以下列通式III表示:(III)其中m系介于1-50的莫耳%;n系介于5-60的莫耳%;o系介于1-60的莫耳%;及p系介于0-40的莫耳%。7.一种制备如申请专利范围第6项之光阻剂共聚物之方法,其包括:(a)在二甲替甲醯胺中,以及选自特-丁氧化物、三乙胺、碳酸钙及氢化钠所组成之族群中之硷的存在下,将申请专利范围第1项之光阻剂中间物物质与二(特-丁基重碳酸盐)反应,藉着特-丁氧基羰基以保护全部或部份之4-羟基亚基;(b)纯化获得自步骤(a)之生成沈淀物;及(c)乾燥步骤(b)之生成物。
地址 韩国