| 主权项 |
1.一种用以区别输入器具上实质上为一点接触所产生压力与一面接触所产生压力之方法,该输入器件具有一对可与其间之一接触电阻形成一电接触之电阻层,可响应于一压力,进而形成一H字形电阻器网路,其中该电接触形成一分流电阻器,且该分流内电阻层提供一对串联电阻器,以形成该H字形电阻器网路,该方法包含:收集一与每一电阻层之至少一个串联电阻器之电阻有关的第一组资讯,以决定该电接触之位置;决定一与该电接头之接触电阻有关的资讯;由一组与使用该第一组资讯之该电接触之接触电阻有关之预设特定位置临界资讯获得一预设临界资讯;及比较与该接触电阻有关之资讯与该预设临界资讯,以实质区别该压力。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中收集该第一组资讯包括施加一跨每一电阻层之该串联电阻器之第一电压。3.如申请专利范围第2项所述之方法,其中收集该第一组资讯更包括收集一组有关跨每一电阻层之至少一个串联电阻器之压差的资讯。4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中决定与该接触电阻有关之该资讯,包括施加一跨每一电阻层之至少一个串联电阻器、该电接触、及一预选电阻之电阻器之第二电压;该等串联电阻器、电接触及预选电阻之电阻器皆系串联设置。5.如申请专利范围第4项所述之方法,其中决定与该接触电阻有关之该资讯,更包括测量跨该等串联电阻器与该电接触之压差。6.如申请专利范围第5项所述之方法,其中决定与该接触电阻有关之该资讯,更包括将测得之该电压转换为该等串联电阻器与该电接触之串联电阻。7.如申请专利范围第4该所述之方法,其中决定与该接触电阻有关之该资讯,更包括并联连接每一电阻层之该等串联电阻器。8.如申请专利范围第1项所述之方法,其中获得该预设临界资讯包括由每一电阻层之至少一个串联电阻器的一组预定临界串联电阻与响应于一点接触所产生之压力之该电接触获得该预设临界资讯。9.一种用以区别数化器上实质上为一点接触所产生压力及一面接触所产生压力之方法,该数化器包括两电阻层,该等电阻层通常为分离状态,但当遭遇由该点接触或该面接触所产生之压力时,该等电阻层将彼此互相接触,以改变两电阻层间之一接触电组,该方法包含:形成一跨包括该接触电阻之两电阻层之电压分流网路;测量该电压分流网路之一电压;决定该数化器上之该接触位置;及比较所测量之电压与一以相似方法在实质上接触位置所量得之对应预设临界电压,以决定该接触为一点接触或为一面接触。10.如申请专利范围第9项所述之方法,其中形成一电压分流网路包含:并联连接每一电阻层之该等串联电阻器,以形成两组并联连接之串联电阻器,该两组串联电阻器系藉该接触电阻而连接;将一预选外部电阻器连接至该两组串联电阻器其中之一,使得该外部电阻器、该接触电组与该两组串联电阻器形成一串联组态;且其中测量电压分流网路中之电压包含施加一跨该串联组态之电压,且测量该在外部电阻器与该两组串联电阻器其中一组间之内部连接之电压。11.一种用以区别数化器上实质上为一点接触所产生压力与一面接触所产生压力之方法,该数化器包括两电阻层,该等电阻层通常为分离状态,但当遭遇由点接触或面接触所产生之压力时,该等电阻层将彼此互相接触,以改变两电阻层间之一接触电阻,该方法包含:形成一跨包括该接触电阻之两电阻层之电压分流网路;在该电压分流网路测量一电压,该电压系相依于该数化器上之接触位置与接触电阻,而无需决定该接触电阻之値;决定该数化器上之该接触位置;及比较所量得之电压与一以相似方法在实质上接触之位置所量得之对应预设临界电压,以决定该接触为一点接触或为一面接触。图式简单说明:第一图为一先前技术之电阻数位化面板之局部分解图。第二图为第一图所示电阻数位化面板相互连接之电阻层与接触电阻之电气模型。第三图显示一输入器件使用本发明较佳具体例,致能第一图所示电阻数位化面板,以区别由点接触造成的压力与面接触造成的压力。第四图为第三图所示输入器件使用的本发明较佳具体例之流程图。第五图为第三图所示输入器件中连接一体的电阻层、接触电阻及一电源电阻器之电气模型。第六图为第三图所示输入器件使用的电阻数位化面板之等串联阈电阻线图。 |
