发明名称 运用磁力装入烧结原料之方法
摘要 使显示强磁性之着磁性烧结原料以及落下速度慢的细粒大多偏析在被装入到托板上之烧结原料层的上层部而予以装入。在藉由倾斜滑槽4而使助长了粒度偏析状态之烧结原料2移动之期间,藉着设置在倾斜滑槽4的下方而内藏有永久磁铁之圆柱状的磁铁鼓筒6而使磁力作用在烧结原料之流体上,而使得容易为磁力所吸引之轧制铁,回矿等之着磁性烧结原料以及落下速度慢的细粒原料大多偏析在托板5上之烧结原料层7的上层部。
申请公布号 TW434322 申请公布日期 2001.05.16
申请号 TW085115711 申请日期 1996.12.19
申请人 川崎制铁股份有限公司 发明人 大山伸幸;主代晃一;井川胜利;田口整司;阿闭忠司;龙平宪治;小野力生
分类号 C22B1/20 主分类号 C22B1/20
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种运用磁力装入烧结原料之方法,其主要系一自供矿漏斗利用鼓筒式喂进机切出烧结原料,而将其装入DL式烧结机之托板上,而形成烧结原料层之烧结原料之装入方法,其特征在于:利用鼓筒式喂进机而切出之烧结原料会在托板式之倾斜滑槽上滑落,当自其前端装入到托板上时,则藉由被设置在该倾斜滑槽之下方之圆柱状的磁铁鼓筒而使磁力作用在烧结原料之流体上,而使着磁性烧结原料藉由磁力被拉到烧结原料之下层侧而着磁,且使落下速度慢的细粒原料偏析于烧结原料的下层侧,藉着使藉由磁铁鼓筒被装入到托架时之烧结原料的上下层产生反转,而使着磁性烧结原料以及落下速度慢的细粒原料大多偏析在被形成在托板上之烧结原料层的上层部。2.如申请专利范围第1项之运用磁力装入烧结原料之方法,附着在磁铁鼓筒之烧结原料,则藉由与该磁铁鼓筒抵接之刮板而刮落,且被回收到托板上。3.如申请专利范围第1项之运用磁力装入烧结原料之方法,除了在设备在平板式之倾斜滑槽下方之磁铁鼓筒与面向该磁铁鼓筒而设之鼓筒之间挂设无端状皮带外,也配设有可以与该无端状皮带之表面抵接的刮板,而附着在无端状皮带之烧结原料则藉由刮板而刮落,且被回收到托板上。4.如申请专利范围第1项,第2项或第3项之运用磁力装入烧结原料之方法,除了在经常使用之平板式倾斜滑槽之正下方离开且呈平行地设置平板式辅助倾斜滑槽外,也使经常使用之倾斜滑槽能够自其作动位置朝斜上方之退避位置自由往复移动,此外则将设置在下方之磁铁鼓筒设成可以在水平方向自由前进后退,而在使经常使用之倾斜滑槽自作动位置移动到斜上方之退避位置,而除去附着在此之烧结原料的作业中,在藉由下侧之辅助倾斜滑槽而装入烧结原料之际,藉着使对应于辅助倾斜滑槽之位置而设置在下方的磁铁鼓筒朝水平方向移动而进行调整以使烧结原料自辅助倾斜滑槽移动到磁铁鼓筒之落下轨迹不致于发生变化。5.如申请专利范围第1,2或3项之运用磁力装入烧结原料之方法,在平板式倾斜滑槽之下部背面设置永久磁铁,藉着永久磁铁对在倾斜滑槽上滑落之烧结原料作用一磁力,可以减低自该倾斜滑槽朝磁铁鼓筒移动之烧结原料的落下速度。6.如申请专利范围第4项之运用磁力装入烧结原料之方法,在平板式倾斜滑槽之下部背面设置永久磁铁,藉着永久磁铁对在倾斜滑槽上滑落之烧结原料作用一磁力,可以减低自该倾斜滑槽朝磁铁鼓筒移动之烧结原料的落下速度。7.如申请专利范围第1,2或3项之运用磁力装入烧结原料之方法中,面向设置在平板式倾斜滑槽之下方之磁铁鼓筒的上流侧设置辅助磁铁鼓筒,而使在磁铁鼓筒与辅助磁铁鼓筒之间落下之烧结原料中,因为磁铁鼓筒所着磁而受损之着磁性烧结原料能够藉由来自辅助磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁。8.如申请专利范围第4项之运用磁力装入烧结原料之方法中,面向设置在平板式倾斜滑槽之下方之磁铁鼓筒的上流侧设置辅助磁铁鼓筒,而使在磁铁鼓筒与辅助磁铁鼓筒之间落下之烧结原料中,因为磁铁鼓筒所着磁而受损之着磁性烧结原料能够藉由来自辅助磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁。9.如申请专利范围第5项之运用磁力装入烧结原料之方法中,面向设置在平板式倾斜滑槽之下方之磁铁鼓筒的上流侧设置辅助磁铁鼓筒,而使在磁铁鼓筒与辅助磁铁鼓筒之间落下之烧结原料中,因为磁铁鼓筒所着磁而受损之着磁性烧结原料能够藉由来自辅助磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁。10.如申请专利范围第1,2或3项之运用磁力装入烧结原料之方法,使设置在上侧之平板式倾斜滑槽之下方的第1段磁铁鼓筒与设置在下侧之平板式倾斜滑槽之下方的第2段磁铁鼓筒呈直到式2段设置,使在上侧之倾斜滑槽上滑落的着磁性烧结原料,藉由来自第1段之磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁,接着则使在下侧之倾斜滑槽上滑落的着磁性烧结原料,藉由来自第2段之磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁。11.如申请专利范围第4项之运用磁力装入烧结原料之方法,使设置在上侧之平板式倾斜滑槽之下方的第1段磁铁鼓筒与设置在下侧之平板式倾斜滑槽之下方的第2段磁铁鼓筒呈直到式2段设置,使在上侧之倾斜滑槽上滑落的着磁性烧结原料,藉由来自第1段之磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁,接着则使在下侧之倾斜滑槽上滑落的着磁性烧结原料,藉由来自第2段之磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁。12.如申请专利范围第5项之运用磁力装入烧结原料之方法,使设置在上侧之平板式倾斜滑槽之下方的第1段磁铁鼓筒与设置在下侧之平板式倾斜滑槽之下方的第2段磁铁鼓筒呈直到式2段设置,使在上侧之倾斜滑槽上滑落的着磁性烧结原料,藉由来自第1段之磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁,接着则使在下侧之倾斜滑槽上滑落的着磁性烧结原料,藉由来自第2段之磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁。13.如申请专利范围第6项之运用磁力装入烧结原料之方法,使设置在上侧之平板式倾斜滑槽之下方的第1段磁铁鼓筒与设置在下侧之平板式倾斜滑槽之下方的第2段磁铁鼓筒呈直到式2段设置,使在上侧之倾斜滑槽上滑落的着磁性烧结原料,藉由来自第1段之磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁,接着则使在下侧之倾斜滑槽上滑落的着磁性烧结原料,藉由来自第2段之磁铁鼓筒的磁力作用而获得着磁。14.一种运用磁力装入烧结原料之方法,其主要系一自供矿漏斗利用鼓筒式喂进机切出烧结原料,而将其装入DL式烧结机之托板上,而形成烧结原料层之烧结原料之装入方法,其特征在于:利用鼓筒式喂进机而切出之烧结原料,当在除了在驱动侧配置磁铁鼓筒外,也在斜上方配置了从动鼓筒之皮带输送带式之倾斜滑槽上滑落时,使该磁铁鼓筒产生正转或是逆转,在藉其磁力作用使着磁性烧结原料获得着磁,而与落下速度慢的细粒原料一起偏析于下层后,则自该皮带输送带式倾斜滑槽直接装入到托板上。15.一种运用磁力装入烧结原料之方法,其主要系一自供矿漏斗利用鼓筒式喂进机切出烧结原料而装入到DL式烧结机之托板上而形成烧结原料层之烧结原料之装入方法,其特征在于:藉由在烧结原料之落下方向旋转的磁铁鼓筒使磁力作用在利用鼓筒式喂进机而切出之烧结原料上,在使烧结原料之着磁性烧结原料获得着磁而与落下速度慢的细粒原料一起偏析于下层后,则自该磁铁鼓筒直接装入托板上。16.如申请专利范围第1,2,3,14或15项之运用磁力装入烧结原料之方法,对应于在被装入到托板上之烧结原料层之上层部所偏析之着磁性烧结原料的目标量来调整磁铁轮鼓之磁力大小及/或旋转数。17.如申请专利范围第4项之运用磁力装入烧结原料之方法,对应于在被装入到托板上之烧结原料层之上层部所偏析之着磁性烧结原料的目标量来调整磁铁轮鼓之磁力大小及/或旋转数。18.如申请专利范围第5项之运用磁力装入烧结原料之方法,对应于在被装入到托板上之烧结原料层之上层部所偏析之着磁性烧结原料的目标量来调整磁铁轮鼓之磁力大小及/或旋转数。19.如申请专利范围第6项之运用磁力装入烧结原料之方法,对应于在被装入到托板上之烧结原料层之上层部所偏析之着磁性烧结原料的目标量来调整磁铁轮鼓之磁力大小及/或旋转数。20.如申请专利范围第7项之运用磁力装入烧结原料之方法,对应于在被装入到托板上之烧结原料层之上层部所偏析之着磁性烧结原料的目标量来调整磁铁轮鼓之磁力大小及/或旋转数。21.一种运用磁力装入烧结原料之方法,其主要系一自供矿漏斗利用鼓筒式喂进机切出烧结原料而装入DL式烧结机之托板上而形成烧结原料层之烧结原料之装入方法,其特征在于:当利用鼓筒式喂进机而切出之烧结原料沿着背面侧在于上下方向呈直列状配列多个永久磁铁之平板式倾斜滑槽上滑落时,藉由来自永久磁铁的磁力作用而使着磁性烧结原料获得着磁,而与落下速度慢的细粒原料一起偏析于下层后,则自该倾斜滑槽直接装入托板上。22.如申请专利范围第21项之运用磁力装入烧结原料之方法,对应在于被装入到托板上之烧结原料层之上层部所偏析之着磁性烧结原料的目标量来调整永久磁铁之磁力的大小。23.如申请专利范围第21项之运用磁力装入烧结原料之方法,当在沿着背面侧而在上下方向呈直列状如愈朝下方磁力愈大般配列着多个永久磁铁而成之平板式倾斜滑槽上滑落时,则藉着来自永久磁铁之磁力作用而使着磁性烧结原料获得着磁,而自该倾斜滑槽直接装入托板上。24.如申请专利范围第23项之运用磁力装入烧结原料之方法,对应于被装入托板上之烧结原料层之体积密度的目标値来调整作用在着磁性烧结原料之永久磁铁的磁力的大小。图式简单说明:第一图系表本发明之烧结原料装入装置的纵断面图。第二图系表本发明之内藏有永久磁铁之磁铁鼓筒的纵断面图。第三图系表本发明之内藏有电磁铁之磁铁鼓筒的纵断面图。第四图系表着磁性原料为本发明之内藏有永久磁铁之磁铁鼓筒所着磁之状况的部分断面图。第五图系本发明与习知例比较距主棒(grate bar)之高度(mm)与轧制铁含有率(%)之关系的线图。第六图系本发明与习知例距主棒之高度(mm)与回矿含有率之关系的线图。第七图系表本发明与习知例距主棒之高度(mm)与烧结原料之算术平均径(mm)之关系的线图。第八图系表本发明与习知例之烧结矿的生产率(t/nm2),良品率(%)以及遮蔽强度(%)加以比较之棒形图。第九图系表本发明将无端状皮带挂设在驱动侧之磁铁鼓筒与从动侧之鼓筒之实施形态的侧面图。第十图系表在本发明之常用的倾斜滑槽的正下方离开且平行地设置辅助倾斜滑槽,而在其下方则设置有可以在前后方向自由移动的磁铁鼓筒之实施态样的纵断面图。第十一图系表在本发明之倾斜滑槽的下部背面设置方形永久磁铁,而在其下方设置磁铁鼓筒之实施态样的纵断面图。第十二图系表面向设置在本发明之倾斜滑槽之下方的磁铁鼓筒设置辅助磁铁鼓筒之实施态样的纵断面图。第十三图系表本发明之第十二图之辅助磁铁鼓筒的纵断面图。第十四图系表在本发明之上流侧之倾斜滑槽的下方设置第1段的磁铁鼓筒,而在下流侧之倾斜滑槽的下方设置第2段之磁铁鼓筒之实施态样的纵断面图。第十五图系表本发明之第十四图之磁铁鼓筒的纵断面图。第十六图系表在本发明之鼓筒式喂进机之下方设置一在驱动侧之磁铁鼓筒与从动侧之鼓筒之间挂设无端状皮带之皮带输送带式倾斜滑槽之实施态样的纵断面图。第十七图系表本发明之第十六图之磁铁鼓筒的纵断面图。第十八图系表在本发明之鼓筒式喂进机的下方设置磁铁鼓筒之实施态样的纵断面图。第十九图系表本发明之第十八图之磁铁鼓筒的纵断面图。第二十图系表在本发明之倾斜滑槽之背面侧在上下方向设置有多个方形永久磁铁之实施态样的纵断面图。第二十一图系表烧结原料层之体积密度(ton/cm3)与烧结矿之生产率(ton/hrm2)之关系的说明图。第二十二图系表烧结原料之落下速度(m/sec)与烧结原料层之体积密度(ton/m3)之关系的说明图。第二十三图系表永久磁铁之磁力的强度(Causs)与烧结原料之磁化的强度(lmu/g)之关系的说明图。第二十四图系表氯化乙烯装入装置的纵断面图。第二十五图系表在藉由永久磁铁在滑槽表面所产生之磁束密度(Gauss)与烧结原料之落下速度(m/sec)之关系的说明图。第二十六图系表比较在配置在倾斜滑槽之下端部背面侧的永久磁铁施加900高斯之磁力时(A)与在永久磁铁未施加磁力时(B)之烧结原料之落下状况的说明图。第二十七图系表比较在配列在倾斜滑槽之背面侧的永久磁铁未施加磁力的实验No.1将在各永久磁铁所施加之磁力设成一定的实验No.2以及自上方朝下方逐渐增加磁力之实验No.3等之烧结原料层的体积密度(ton/m3)以及烧结矿的生产率(ton/hrm2)的棒形图。第二十八图系表习知例之烧结原料装入装置的纵断面图。
地址 日本