发明名称 淀积双轴结构涂层的方法与设备
摘要 一种制造双轴结构涂层的淀积方法与设备,双轴结构在淀积时高能粒子以可控角度轰击而形成。淀积方法应用一个或多个磁控管溅射装置,能产生待淀积材料流和方向可控的高能粒子流,从而可控制对衬底的入射角。磁控管溅射源产生高能粒子与待溶积材料束,能使所述束以控制的角度射向衬底,由此在衬底上淀积双轴结构涂层。
申请公布号 CN1295628A 申请公布日期 2001.05.16
申请号 CN99804648.5 申请日期 1999.03.30
申请人 根特大学 发明人 R·德克里西;J·的那
分类号 C23C14/35;H01J37/34 主分类号 C23C14/35
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 李湘
主权项 1.一种应用一个或多个磁控管溅射装置将双轴结构涂层淀积到衬底上的方法,所述溅射装置作为待淀积粒子和形成双轴结构的导向高能粒子流二者的源。
地址 比利时根特